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影响聚硅氮烷发展的不利因素
来源:iotachem.com
发布日期:2024-10-31 09:32:06
1.成本较高
整体来看,原材料价格会处于波动状态,增加了行业成本的不确定性,有时甚至导致成本居高不下。同时,劳动力成本上升,高劳动力成本给制造商带来了更大的成本负担。
2.制备技术难度大
现阶段,全球聚硅氮烷制备工艺仍存在技术瓶颈,且聚硅氮烷性质较为活泼,存储及运输较为困难,因此与类似聚合物聚硅氧烷相比,聚硅氮烷市场规模小。
3.专利阻碍
我国在聚硅氮烷的综合竞争力与发达国家仍存在较大的差距,聚硅氮烷涂层优异的加工性能和产物性能使其具有广阔的应用前景。在聚硅氮烷的制备方面,我国的综合实力较弱,而对于聚硅氮烷涂层的应用,AZ电子材料、三星株式会社、柯尼卡美能达株式会社、琳得科株式会社等发达国家的申请人在我国开展专利布局早,专利数量多。
相比于国外在聚硅氮烷涂层方面的研究,国内的研究报道较少,针对聚硅氮烷在光电领域的应用研究更是鲜有报道,这无疑对我国聚硅氮烷行业的发展提出了挑战。我国应加强聚硅氮烷制备方法与应用方法的研究,突破聚硅氮烷制备与应用存在的难点并加强知识产权保护,打造有竞争力的聚硅氮烷涂层产业链。
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